Desenvolvimento de um sistema a jato de plasma obtido em cátodo oco para deposição de filmes finos

dc.contributor.advisorAlves Júnior, Clodomiropt_BR
dc.contributor.advisorIDpor
dc.contributor.advisorLatteshttp://lattes.cnpq.br/7441669258580942por
dc.contributor.authorAlmeida, Edalmy Oliveira dept_BR
dc.contributor.authorIDpor
dc.contributor.authorLatteshttp://lattes.cnpq.br/1480791721671288por
dc.contributor.referees1Costa, José Alzamir Pereira dapt_BR
dc.contributor.referees1IDpor
dc.contributor.referees1Latteshttp://lattes.cnpq.br/5592146590288686por
dc.contributor.referees2Fontana, Luis Césarpt_BR
dc.contributor.referees2IDpor
dc.contributor.referees2Latteshttp://lattes.cnpq.br/9403290679198474por
dc.date.accessioned2014-12-17T15:14:59Z
dc.date.available2012-12-16pt_BR
dc.date.available2014-12-17T15:14:59Z
dc.date.issued2003-11-25pt_BR
dc.description.resumoFoi construído e testado um novo sistema de jato a plasma obtido por descarga em catado oco. O sistema usado para deposição de filmes finos é formado de um catado oco, que trabalha a altas pressões (aproximadamente 1 a 5 mbar), fonte DC (0 a 1200 V), câmara cilíndrica de borossilicato fechada por flages de aço inox. No flange superior está conectado o cátodo oco, o qual possui entrada de gás e sistema de refrigeração. Ele é eletricamente isolado do resto do flange e polarizado negativamente. Em frente ao mesmo está um porta amostra em aço inox, móvel, com distância variando entre 0 e 22mm, polarizado em relação ao cátodo com tensões variáveis entre 0 e 200V. Ambos os cátodos são equipados com termopares. Uma proteção móvel (shutter) é colocada entre o cátodo oco e o porta amostra do substrato para proteger a amostra, enquanto se faz uma limpeza do cátodo. O equipamento foi testado com cátodo de cobre em cavidade de dimensões diferentes. Foram investigadas influências dos parâmetros primários como diâmetro, profundidade da cavidade de cátodo oco e a eficiência do equipamento. O fluxo de argônio foi fixado a 15 sccm, com pressão constante de 2,7 a 3,5 mbar. Cada filme foi depositado durante 15min e depois foi caracterizado por microscopia eletrônica para verificar sua uniformidade. Através da variação das dimensões do cátodo, foi possível avaliar a taxa de desgaste do seu material, para as diferentes condições de trabalho. Valores de taxa de desgaste até 3,2x10-6g/s foram verificados. Para uma distância do substrato de 11mm, o filme depositado ficou limitado a uma área circular de 22mm de diâmetro. Os filmes obtidos encontram-se com espessura em torno de 2,1μm/minpor
dc.description.sponsorshipCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superiorpt_BR
dc.formatapplication/pdfpor
dc.identifier.citationALMEIDA, Edalmy Oliveira de. Desenvolvimento de um sistema a jato de plasma obtido em cátodo oco para deposição de filmes finos. 2003. 89 f. Dissertação (Mestrado em Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2003.por
dc.identifier.urihttps://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16615
dc.languageporpor
dc.publisherUniversidade Federal do Rio Grande do Nortepor
dc.publisher.countryBRpor
dc.publisher.departmentFísica da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosferapor
dc.publisher.initialsUFRNpor
dc.publisher.programPrograma de Pós-Graduação em Físicapor
dc.rightsAcesso Abertopor
dc.subjectFilmes finospor
dc.subjectDissertaçãopor
dc.subjectJato de plasmapor
dc.subjectCátodo ocopor
dc.subject.cnpqCNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICApor
dc.titleDesenvolvimento de um sistema a jato de plasma obtido em cátodo oco para deposição de filmes finospor
dc.typemasterThesispor

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