PPGEM - Mestrado em Engenharia Mecânica
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Navegando PPGEM - Mestrado em Engenharia Mecânica por Autor "Almeida, Edalmy Oliveira de"
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Dissertação Avaliação de propriedades ópticas e espessura de filmes finos de TiO2 a partir do espectro de transmitância(Universidade Federal do Rio Grande do Norte, 2016-05-12) Severiano Sobrinho, Valmar da Silva; Melo, José Daniel Diniz; Costa, Thercio Henrique de Carvalho; ; http://lattes.cnpq.br/3647710047561421; ; http://lattes.cnpq.br/6572298923055649; ; Almeida, Edalmy Oliveira de; ; http://lattes.cnpq.br/1480791721671288; Delmonte, Maurício Roberto Bomio; ; http://lattes.cnpq.br/9558299312183852; Nascimento, Rubens Maribondo do; ; http://lattes.cnpq.br/8671649752936793Filmes finos de TiO2 podem ser a resposta para grandes questões atuais sobre as melhores maneiras de obter energia, economizar energia e reduzir a poluição. Tais filmes têm sido aplicados com sucesso para produção de células solares; como camada em janelas inteligentes, janelas fotocrômicas e eletrocrômicas; além de possuírem propriedades fotocatalítica interessantes. Este trabalho explora a importância tecnológica e científica desse material realizando investigações a respeito dos filmes de TiO2, sua forma de deposição, técnicas de análise, detalhando formas atuais de análise óptica, buscando, de maneira inovadora, comparar tais técnicas, validar seu uso, e comparar seus resultados na busca de meios econômicos da realização de investigações a respeito de espessura, estrutura e avaliação de propriedades fotocatalíticas do material produzido. Nesse trabalho foram utilizadas, para criação de filmes finos, deposição física pelo método de magnetron sputterin. Para análise óptica e cálculo de espessura e Band Gap dos filmes será apresentado o Método do Envelope que foi originalmente proposto por Manifacier (Manifacier, Gasiot e Fillard, 1976) sendo que mais tarde Swanepoel (1983) conseguiu melhorar ainda mais a precisão desse método para encontrar propriedades ópticas dos filmes finos e sua espessura. Também será apresentado, a aplicação de equações propostas nos trabalhos de Lindgren (Lindgren et al., 2003) e a Lei de Beer-Lambert para cálculo do Coeficiente de Absorção dos filmes, outro dado importante para mais tarde determinar o gap dos mesmos, que será encontrado pelo Método Tauc. Para filmes muito finos, com poucas ou nenhuma franja de interferência se faz necessário o estudo de algum Método Computacional para determinação dos seus parâmetros ópticos e espessura. Para tanto utilizou-se o Método PUMA, um Método Computacional desenvolvido por pesquisadores da UNICAMP/USP. Os filmes depositados foram analisados por DRX, EDS, além de serem submetidos a análise óptica, MEV transversal buscando validar os métodos ópticos em termos das espessuras recuperadas, além de encontrado seus Band Gap e seus valores comparados com o esperado pela literatura confrontando tais resultados com a cristalinidade obtida para os filmes.Dissertação Diagnóstico de descarga de cátodo oco de ar e pós-descarga Ar N2 por espectroscopia de emissão óptica e espectrometria de massa(Universidade Federal do Rio Grande do Norte, 2013-07-05) Santos, Edson José da Costa; Guerra Neto, Custódio Leopoldino Brito; ; http://lattes.cnpq.br/5387010100082241; ; http://lattes.cnpq.br/6256910799404165; Alves Júnior, Clodomiro; ; http://lattes.cnpq.br/7441669258580942; Costa, Thércio Henrique de Carvalho; ; http://lattes.cnpq.br/3647710047561421; Almeida, Edalmy Oliveira de; ; http://lattes.cnpq.br/1480791721671288; Barbosa, Júlio César Pereira; ; http://lattes.cnpq.br/0437190557200470Muitas aplicações de plasma exigem que a descarga seja produzida distante da superfície a ser processada, evitando assim danos causados pelo bombardeamento e/ou radiação do plasma. Nesse regime de pós-descarga várias aplicações em materiais termicamente sensíveis podem ser utilizadas. Neste trabalho espécies ativas produzidas por descarga e pós-descarga de catodo oco foram diagnosticadas por espectroscopia de emissão óptica e espectrometria de massa. A descarga foi produzida com os gases Ar e mistura Ar - N2 com fluxo de gás variando de 1 a 6 cm3/min e corrente elétrica entre 150 a 600 mA. Estimou-se que a densidade de íons no interior do cátodo oco, com 2 mm de diâmetro, variou entre 7,71 e 14,1 x 1015 cm-3. Observou-se que o fluxo de gás e a corrente elétrica alteram a intensidade de emissão das espécies de Ar e N2. As principais espécies iônicas detectadas por espectrometria de massa quadrupolar foram de Ar+ e N2+. A razão das intensidades de emissão ótica de N2 (1 +)/Ar(811 nm) foi relacionada com a pressão parcial de N2 na pós-descarga de cátodo oco em baixa pressãoDissertação Diagnóstico de plasma de cátodo oco: análise da ação de plasma de argônio e Ar-H2 para a deposição de filmes finos de titânio em pós-descarga(Universidade Federal do Rio Grande do Norte, 2013-07-05) Silva, Bruno Felipe Costa da; Guerra Neto, Custódio Leopoldino Brito; Alves Júnior, Clodomiro; ; http://lattes.cnpq.br/7441669258580942; ; http://lattes.cnpq.br/5387010100082241; ; http://lattes.cnpq.br/4337211830040862; Costa, Thércio Henrique de Carvalho; ; http://lattes.cnpq.br/3647710047561421; Almeida, Edalmy Oliveira de; ; http://lattes.cnpq.br/1480791721671288; Araújo, Francisco Odolberto de;O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes através de sputtering com liberação de átomos neutros do cátodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato, utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio em catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnóstico na pós-descarga. Os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observou-se que no espectro das linhas de argônio ocorreu excitação de espécies. Verificaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo como: tempo de deposição, distância da descarga e gases de trabalho. Contatou-se um aumento da intensidade das linhas de argônio quando comparadas com as linhas de titânio. Para deposição com Argônio e hidrogênio em amostra de vidro observou uma maior taxa deposição de titânio quanto mais próxima a amostra se encontrava da descargaDissertação Produção e análise do desempenho óptico e elétrico de filmes finos de SnO2:F para aplicações fotovoltaicas(Universidade Federal do Rio Grande do Norte, 2015-02-13) Queiroz, José César Augusto de; Souza, Luiz Guilherme Meira de; ; http://lattes.cnpq.br/0801747108308706; ; http://lattes.cnpq.br/0628339035620762; Almeida, Edalmy Oliveira de; ; http://lattes.cnpq.br/1480791721671288; Costa, Tharsia Cristiany de Carvalho; ; http://lattes.cnpq.br/4222594679769828; Costa, Thércio Henrique de Carvalho; ; http://lattes.cnpq.br/3647710047561421No início do século XX revestimentos superficiais ou filmes finos, eram materiais que despertavam interesses unicamente em aplicações óticas. Esses filmes tinham uma participação meramente utilitária, onde necessitava apenas da medida da espessura do mesmo e suas propriedades óticas. Com o crescimento exponencial do emprego de filmes finos em microeletrônica, criou-se a necessidade de compreender a natureza intrínseca dos filmes. Em 1907 foi publicado o primeiro estudo sobre um filme fino transparente e condutor para a luz visível. Tais propriedades foram observadas em filmes de óxido de cádmio (CdO) obtidos por pulverização catódica seguida de oxidação térmica. Ao passar do tempo, outros filmes como ZnO, SnO2, In2O3 e suas ligas também foram classificadas como TCO (Óxidos Condutores Transparentes). Atualmente o campo de aplicação de tais filmes é amplo e compreende setores como mostradores eletrônicos de cristais líquidos, eletrodos transparentes usados em eletroquímica, janelas inteligentes refletoras de radiação no infravermelho, coletor solar plano, camada anti-refletoras para células solares, transistores e camadas passivadoras de superfícies de dispositivos semicondutores. Neste trabalho estudou-se a propriedades óticas e elétricas de filmas de SnO2:F (dióxido de Estanho dopado com Flúor) para aplicações fotovoltaicas, variando a temperatura de sinterização do filmes (500, 550 e 600ºC) e a quantidade do agente dopante (NH4F) na solução. Os filmes foram depositados via deposição química de vapor, por spray, e caracterizados por Difração de raios-X, Transmitância e refletância, resistividade e condutância. Como resultados pode-se destacar que para filmes sintetizados a temperaturas mais altas tem estruturas mais cristalinas, a cristalinidade dos filmes é diretamente proporcional a sua resistividade e que para maiores concentrações de agente dopante tem-se uma diminuição na resistividade dos filmes.